机械设计与研究 ›› 2009, Vol. 25 ›› Issue (02): 96-100.doi: 10.13952/j.cnki.jofmdr.a2188
王伊卿;贾志洋;赵万华;卢秉恒;
发布日期:2020-07-26
Published:2020-07-26
摘要： 全面介绍了面曝光快速成形关键技术、应用及研究现状,指出了其优势和存在的问题;阐述了面曝光快速成型系统组成、掩膜生成方法及关键器件工作原理,分析了LCD作为快速成型掩膜生成器件的失效原因,重点比较了LCD、DMD掩膜生成器件的分辨率、可靠性以及对快速成型的适用性;探讨了掩膜曝光快速成形过程中,树脂曝光固化引起翘曲变形的原理,介绍了改善翘曲变形的方法;最后,根据以上分析以及掩膜生成关键器件的发展现状,提出了面曝光快速成形技术的发展趋势。
王伊卿;贾志洋;赵万华;卢秉恒;. 面曝光快速成形关键技术及研究现状[J]. 机械设计与研究, 2009, 25(02): 96-100.
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